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半导体行业所需材料:制造产业链的基础材料

2022-10-31 00:00:00
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  半导体行业所需材料:制造产业链的基础材料,让鲲鹏精密智能科技来给大家说说看吧

  从材料的角度来看,与半导体行业相关的材料主要有三大类:1、半导体材料;2. 生产材料;3包装材料。

  抛光材料

  半导体中的抛光材料一般是指CMP化学机械抛光工艺中使用的材料,这是实现晶圆整体均匀压扁的关键工艺。

  抛光材料一般可分为抛光垫、抛光液、调节剂和清洁剂,其中前两者是关键。抛光垫材质一般为聚氨酯或聚酯配合饱和聚氨酯,抛光液一般由超细固体颗粒磨料(如纳米级二氧化硅、氧化铝颗粒等)、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等组成。

  光致抗蚀剂

  光刻胶又称光刻胶,是一种光敏混合液体。其成分包括:光引发剂(包括光敏剂、光酸产生剂)、光抗蚀树脂、单体、溶剂和其他助剂。

  光刻胶可以通过光化学反应、曝光、显影等光刻工艺,将所需的微花纹从掩模(掩模)转移到待加工的衬底上。

  根据应用场景的不同,此处加工的基板可以是集成电路材料、显示面板材料(LCD)或印刷电路板(PCB)。根据化学反应原理的不同,光刻胶可分为正光刻胶和负光刻胶。

  从技术难度上看:PCB光刻胶< LCD光刻胶<半导体光刻胶;相应的本地化比例也越来越低。

  光刻胶所在的微电子化工行业是典型的技术密集型行业,是电子工业与化工工业的交汇点。

  从事微电子化工业务,必须具备与电子工业前沿发展相匹配的关键生产技术,如与生产工艺相匹配的混合技术、分离技术、净化技术、分析检测技术、环境处理和监测技术等。光刻胶的技术壁垒包括配方技术、质量控制技术和原料技术。

  配方技术是光刻胶功能的核心,质量控制技术能保证光刻胶性能的稳定,优质的原料是光刻胶性能的基础。

  面具版本

  在业内又称光掩模、光掩模板、光刻掩模板,英文名MASK或PHOTOMASK,材料:石英玻璃、金属、铬和感光胶,本产品是以石英玻璃为基材,在其中金属和感光胶上镀铬层,成为一种感光材料,图形通过电子激光设备设计电路曝光在感光胶上,分别曝光区展开,在电路图案上形成金属铬,经过类似曝光后的薄膜光掩模模板,然后应用到集成电路投影定位上,通过集成电路光刻机在投影电路上光刻,其生产加工程序为:曝光、显影、感光胶粘接,然后应用到光刻上。

半导体产业所需材料


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