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摄像头模组清洗设备

摄像头模组清洗设备

  • 所属分类:半导体清洗材料
  • 浏览次数:0
  • 发布日期:2021-10-26 15:09:46

产品概述

摄像头模组清洗机

应用领域:

清洗机

清洗工艺

放入物料   —— 一键清洗开始,安全门自动关闭 —— 二流体清洗—— 离心脱水(去静电离子风与加热腔体辅助干燥) --- 清洗完毕,报警提示 --- 玻璃门自动打开。

设备特点:

  • 可更换清洗盘清洗多种产品,清洗盘按产品定做;

  • 设备操作方便快捷,更具人性化;

  • 设备采用二流体清洗,清洗精度高,对产品零损伤,纯水消耗量极小

  • 旋转式喷杆,避免二次污染产品;

  • 高速离心设计,转速可调节100-1500R/Min;

  • 配备静电消除装置、腔壁加热装置,辅助清洗达到最佳效果;

  • 配备2级空气过滤系统,压缩空气符合ISO8573.1标准;

  • 缩减宽度的省空间设计,减少无尘车间的占用面积;

  • 整机不锈钢机身,能耐酸碱,对工作环境无污染,镜面机壳使设备保养时 易于清理;

  • 完全使用超纯水清洗,符合RoHS标准。

 

技术参数: 

设备外观尺寸

 1050mm(L)×900mm(W)×1900mm(H)

 清洗盘规格

 定制(清洗盘直径<ø550mm)

 清洗方式

 二流体清洗

 干燥方式

 高速离心甩干

 电源供应

 AC380V 50HZ

 总功率

 7KW 

 耗电量

 清洗时: 3.5kw/h

 待机时: 1kw/h

 传动马力 

 3HP 

 环境过滤方式 

 0.3μm;99.999% 

 空气过滤方式 

 1μm×1;0.01μm×1 

 离心转速 

 100-1500RPM 

 纯水消耗量 

 0-7L/Min 

 气体消耗量 

 10-30m³/H 

 清洗压力 

 液体压力:3-8Kgf/cm²     空气压力:0.2-0.5Mpa

 DI水供应 

 流量:>7LPM  电阻率:>17MΩ 

 气源供应 

 压力:0.45-0.7Mpa;流量:>30m³/H(洁净度符合清洗要求) 

 纯水入口径 

 ø12mm软管或PT1/2″内螺纹 

 气源入口径 

 ø12mm气管 

 排水出口径 

 PT 1″内螺纹

 排气口口径

 4″×2(需加强抽风,风速大于3m/sec)

 机器净重

约450KG


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