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半导体器件的碱性清洗剂

半导体器件的碱性清洗剂

  • 所属分类: 环保清洗剂
  • 浏览次数:0
  • 发布日期:2021-11-13 16:41:42

产品概述


专为浸没式清洗工艺设计的单相水基型清洗剂,能够有效去除多种半导体电子器件芯片焊接后的助焊剂残留物,包括引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS,且能够保证有效去除铜表面的氧化层。


相较于其他清洗液的优势:

1.为引线键合、封装和胶装等后续工艺提供无污点且激 活的铜表面并在一定时间内保持活性

2.在处理铜、铝、镍等敏感金属材料时表现出良好的材料兼容性

3.非常低的表面张力,在清洗低间隙元器件的底部残留物时拥有卓越表现

4.应用过程十分简便,在浸没式清洗工艺中拥有卓越表现

5.能够轻易被去离子水漂洗干净,不会留下任何残留



应用领域
去除污染物清洗工艺清洗技术

SiP封装清洗

助焊剂残留

超声波清洗设备

单相水基清洗技术
晶圆级封装清洗
MEMS器件封装清洗
摄像模组清洗底部喷流清洗设备
功率电子器清洗


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